1924
7月24日、森澤信夫が「邦文写真植字機」の構想を世界に先駆け特許出願。
翌年6月23日「写真装置」の名称で特許を得る。 | »詳細
1929
実用写真植字機第1号を完成。 | »詳細
1948
大阪市西成区に「写真植字機製作株式会社」を設立する。| »詳細
1954
商号を「株式会社モリサワ写真植字機製作所」と改称。
MC型を発案、特許を取得する。
1955
初の自社書体としてモリサワフォント第1号となる「中ゴシック体BB1」「中明朝体AB1」発表。
東京営業所を中央区日本橋に開設する。
1957
本社・工場を大阪市浪速区の現在地に新築移転する。
1958
文字幅が異なるため開発が困難とされたアルファベットを自動送りするモリサワ独自の
「欧文専用写真植字機」を開発。欧米・東南アジアに輸出する。| »詳細
1963
西独の国際印刷機材展「ドルッパ展」に「欧文写真植字機」を初出品展示。
1964
NHK より要請を受け、東京オリンピック用にテレビテロップ専用写植機を開発する。| »詳細
1967
写真植字機MCシリーズの集大成として万能機「MC-6型」を発表する。
1969
東京支店新社屋を新宿区下宮比町の現在地に建設。
1971
商号を「株式会社モリサワ」と改称。
1974
写真植字機発明の「50年記念式典」を開催。同時に「写真植字50年」を発刊する。
1980
ライノタイプポール社との合弁によりモリサワライノタイプ株式会社設立。
デジタルフォントを組み込んだCRT電算写植「ライノトロン202Eシステム」を開発、出荷する。| »詳細
1984
写植機発明60周年を記念して国際タイプフェイスコンテスト モリサワ賞を創設。| »詳細
(以降2002 年まで3 年毎に開催)
1987
画期的なウィズウィグを実現した組版機「MK-300」を発表。(MK-300 の画像)
中国北京において森澤信夫基金による第1 回「森澤信夫印刷奨」の授賞式を行う。
(以降2005 年まで2 年毎に開催。)
アドビシステムズ社と日本語ポストスクリプトフォント開発に関する契約締結。
1989
ポストスクリプト日本語フォント製造に進出する。| »詳細
1996
デジタルコミュニケーションの拠点として東京支店(現・東京本社) 地上9 階建竣工。| »詳細
1999
New CID Font 発売。
2000
'99 毎日デザイン賞特別賞を受賞。
2001
本社・東京本社の二本社制とする。
本社 環境マネジメントシステムISO14001 認証取得。
2002
Open Type Font 発売。 | »詳細
モリサワフォント「グッドデザイン賞」を受賞。
2004
情報端末向軽量アウトラインフォントKei Type 開発、販売。
2005
年間契約フォントライセンスシステム「MORISAWA PASSPORT(モリサワパスポート)」の発売を開始。
2009
大阪に環境問題や自然災害・情報セキュリティに対応した地上9階建新本社ビル竣工。
UD書体 2009年度グッドデザイン賞を受賞。(業務用・公共用ソフトウェア部門)
2010
本社ビル 2010 年度グッドデザイン賞を受賞。
株式会社タイプバンクを完全子会社化。
2011
リョービ株式会社ならびにリョービイマジクス株式会社よりフォント事業を譲受。
ARPHIC TECHNOLOGY CO.,LTD.(台湾)と業務提携。
2012
SANDOLL Communications Inc.(韓国)と業務提携。
クラウドフォントサービス「TypeSquare」を開始。